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KLA-텐코, 16나노 이하 반도체 공정용 계측장비 2종 출시

디지털데일리 발행일 2015-03-05 18:04:08
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한주엽

KLA-텐코의 오버레이 계측 장비 아처 500LCM.
KLA-텐코의 오버레이 계측 장비 아처 500LCM.

[디지털데일리 한주엽기자] KLA-텐코는 5일 16나노 이하급 첨단 반도체 공정에 맞춰진 오버레이 계측 장비 아처(Archer) 500LCM과 필름 계측용 장비 스펙트라필름(SpectraFilm) LD10을 출시한다고 발표했다.

찍고(노광), 깎고(식각), 덮는(증착) 것이 반복되는 웨이퍼 제조 공정에서 오버레이 계측은 수십 개의 층이 삐뚤어지지 않고 제대로 쌓였는 지를 검증하는 과정을 의미한다. 아처 500LCM은 반도체 생산 전 단계에 걸쳐 오버레이 오류 피드백을 제공함으로써 칩 제조업체가 다중 패터닝, 스페이서 피치 스플리팅(spacer pitch splitting) 등의 패터닝 기법을 적용할 때 발생하는 오버레이 문제를 해결해준다. 즉, 문제가 생겼을 때 웨이퍼 작업을 새로 할 지, 공정을 조정할 지를 결정하는 데 도움을 준다. 이미 이 장비는 주요 파운드리 및 반도체 업체에 공급이 이뤄진 상태다.

스펙트라필름 LD10 필름 계측 장비는 정밀한 필름 두께 및 스트레스 계측을 통해 핀펫(FinFET), 3D 적층 낸드플래시 등 다양한 공정에서 사용되는 필름 및 필름 적층의 검증과 모니터링을 지원한다. 기존 자사 장비였던 알레리스(Aleris) 대비 처리 속도가 획기적으로 향상됐다는 것이 회사 측의 설명이다. 이 장비는 이미 여러 건의 주문이 접수된 상태다.

아흐마드 칸 KLA텐코 부사장은 “아처 500LCM과 스펙트라필름 LD10은 유연한 계측 기능을 제공해 고객사가 현재 노드의 수율을 높이고 다음 노드 기술을 연구하는 데 도움을 준다”고 말했다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr

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