SK하이닉스, 중국 우시 확장팹 준공…D램 생산라인 확장
SK하이닉스(대표 이석희)는 중국 우시에서 확장팹(C2F) 준공식을 개최했다고 18일 밝혔다. C2F는 기존 D램 생산라인인 C2를 확장한 것이다. SK하이닉스에 따르면 미세공정 전환에 따른 생산공간 부족 문제를 해결하기 위해 지난 2016년 생산라인 확장을 결정했다.
이날 행사에는 이 대표를 비롯해 리샤오민 우시시 서기, 궈위엔창 강소성 부성장, 최영삼 상하이 총영사 등 500여명이 참석했다.
지난 2004년 SK하이닉스는 중국 장쑤성 우시시와 현지 공장 설립을 위한 계약을 체결했다. 이후 2006년 생산라인을 완공, D램 생산을 시작했다. 당시 건설된 C2는 SK하이닉스의 첫 300mm 팹이다.
하지만 공정 미세화로 인해 공정수가 늘고, 장비가 대형화되면서 공간이 부족해졌다. 이에 SK하이닉스는 지난 2017년 6월부터 이달까지 총 9500억원을 투입, 추가로 반도체 생산공간을 확보하게 된 것이다.
C2F는 건축면적 5만8000㎡의 단층 팹으로 기존 C2 공장과 비슷한 규모다. SK하이닉스는 C2F의 일부 클린룸 공사를 완료하고 장비를 입고해 D램 생산을 시작했다.
SK하이닉스 우시 팹 담당 강영수 전무는 “C2F는 기존 C2 공장과 ‘원 팹’으로 운영함으로써 우시 팹의 생산·운영 효율을 극대화할 것”이라고 말했다.
<김도현 기자>dobest@ddaily.co.kr
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