반도체

日JSR, 벨기에 IMEC와 합작… EUV 노광용 포토레지스트 공급

디지털데일리 발행일 2015-05-17 17:33:47
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한주엽

[전자부품 전문 미디어 인사이트세미콘]

극자외선(Extreme Ultra Violet, EUV) 노광(露光, Photo Lithography) 공정 기술의 양산라인 도입을 위해 관련 재료 업체들도 분주하게 움직이고 있다.

17일 관련 업계에 따르면 일본 소재 업체인 JSR은 벨기에 반도체 연구기관인 IMEC와 포토레지스트(감광액) 등 EUV용 소재 사업을 위한 합작 회사를 설립키로 했다. 합작 회사는 JSR이 과반 이상의 지분을 보유할 예정이다. JSR이 제조 기술과 생산 및 분석 설비를 대고 IMEC이 EUV 노광용 감광액 기술 노하우를 제공한다. 합작사 공장은 벨기에의 기존 JSR 법인 공장 부지에 들어설 예정이다. 이 공장에서 생산되는 감광액은 JSR 브랜드로 판매된다.

EUV 노광 공정은 10나노 이하의 초미세 패턴 형성에 적용되기 때문에 감광액 역시 변화해야 한다. 예컨대 mJ 단위로 표기되는 감광도(빛을 얼마나 쬐어야 감광이 되는지)가 낮아야 한다. 웨이퍼 위로 도포했을 시 기포가 적게 생기는 것도 수율에 영향을 미치는 핵심 사양이다.

뤽 반 덴 호브 IMEC 최고경영자는 “이번 제휴로 JSR의 생산 거점과 IMEC의 기술 기반이 융합돼 차세대 기술을 개발하는 파트너들에게 업계 최고 수준의 제품을 공급할 수 있게 됐다”고 말했다. 코시바 미쯔노부 JSR 대표이사는 “EUV는 ‘무어의 법칙’을 지속하기 위한 필수적 기술로 JSR은 기존 화학 증폭형 감광액 외 새로 설계된 고감도 감광액 같은 주변 재료를 개발하고 있다”며 “이번 합작으로 ‘EUV 노광 공정의 품질 보증’라는 업계의 요구에 적절히 대응할 수 있게 됐다”고 말했다.

<한주엽 기자>powerusr@insightsemicon.com

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