반도체

하이닉스, 공정예측시스템 개발 착수…수율·공정전환 속도 높인다

디지털데일리 발행일 2011-02-15 15:42:47
  • 가
  • 가
한주엽 기자
[디지털데일리 한주엽기자] 하이닉스반도체가 반도체 수율 향상을 위해 공정예측시스템 개발에 착수했다.

공정예측시스템은 그간 하이닉스가 품질분석시스템으로 수집해 온 반도체 제작 공정별 분석 리포트(불량 원인 등)를 통계 데이터로 가공, 주요 반도체 제조 장비들이 최적의 상태로 돌아갈 수 있는 환경(온도·습도·압력·조도 등) 데이터를 산출해내는 역할을 한다. 공정 전환 및 라인 신설 시 이 같은 데이터를 활용해 전반적인 반도체 수율을 높일 수 있을 것이라는 설명이다.

각종 장비가 반도체 수율에 미치는 영향을 파악할 수도 있어 미세 공정 전환 시 최적의 장비를 적소에 배치하는 것도 가능하다. 전문가들은 하이닉스가 이 같은 시스템을 구축하고 활용할 경우 안정적 수율의 조기 확보로 미세 공정으로의 양산 전환 및 대량 양산 체제를 빠르게 갖출 수 있을 것으로 예상했다. 이는 곧 생산성 및 수익성 향상으로 이어질 것이라는 관측이다.

15일 하이닉스반도체 고위 관계자는 “올 6월 개발 완료를 목표로 공정예측시스템을 개발하고 있다”며 “이 시스템이 개발되면 미세공정 전환 시 통계에 기반을 둔 과학적 근거를 토대로 최고 수율을 확보할 수 있는 환경 조성에 큰 도움을 얻을 수 있을 것”이라고 말했다.

공정예측시스템을 활용해 안정적 수율을 조기에 확보하고 미세 공정으로의 전환이 재빨리 이뤄지면 생산성과 수익성 측면에서 신규 라인을 증설한 것과 같은 효과를 낼 수 있다는 것이 이 관계자의 설명이다. 하이닉스는 그간 축적된 통계 자료를 가공하기 위해 이 분야의 통계 전문가도 영입한 것으로 알려졌다.

반도체 업계 한 관계자는 “같은 장비를 보유하고 있어도 이를 어떻게 다루느냐에 따라 수율에 차이가 나게 되어 있다”며 “공정 각 과정에서의 불량 포인트를 꿰고 있으면 조기 수율 확보는 물론, 문제가 발생했을 때 이에 대응하는 시간도 줄어들게 되어 전반적인 수익성 향상이 이뤄질 수 있을 것”이라고 말했다.

앞서 권오철 하이닉스반도체 대표는 올해 안정적 경영 기조를 유지하기 위해 “기술력과 제품력, 원가경쟁력을 높이기 위해 미세 공정 전환 및 수율 향상에 경영 초점을 맞추고 있다”고 말한 바 있다.

하이닉스는 올 연말 30나노급 D램 비중을 40%까지, 20나노급 낸드플래시의 비중을 80%까지 끌어올려 생산성을 높이겠다는 계획을 세워뒀다. 6월께 개발이 완료될 공정예측시스템은 이 같은 앞선 미세 공정으로의 조기 전환에 도움을 줄 수 있을 것이라는 분석이다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr
Copyright ⓒ 디지털데일리. 무단전재 및 재배포 금지
한주엽 기자
webmaster@ddaily.co.kr
기자의 전체기사 보기 기자의 전체기사 보기

이 기사와 관련된 기사

디지털데일리가 직접 편집한 뉴스 채널

당신이 좋아할 만한 뉴스

많이 본 기사

연재기사

실시간 추천 뉴스