[디지털데일리 한주엽기자] 하이닉스반도체가 낸드플래시의 생산량을 확대하기 위해 증설 계획을 세우고 있다.

25일 관련 업계에 따르면 하이닉스는 최근 태스크포스(TF)팀을 만들어 청주 공장에 클린룸 신규 구축 및 낸드플래시용 장비 반입 계획을 세우고 있다.

이번 증설은 청주 M11 라인 건설 당시 복층 구조로 완공해 놓았던 비어있는 M12 라인에 대한 것으로 2012년 내 클린룸 구축과 장비 반입을 완료하고 시험 가동 돌입을 목표로 삼고 있다.

M12 라인의 최대 생산 규모는 M11과 동일한 300mm 웨이퍼 투입 기준 월 13~15만장이 될 것으로 관측되며 업그레이드된 20나노 초반대 미세공정이 적용될 것으로 알려졌다.

하이닉스는 낸드플래시 수요가 증대됨과 동시에 포트폴리오 분산 차원에서 이번 증설 계획을 세운 것으로 알려졌다. 현재 청주 M11 라인의 낸드플래시 생산 규모는 지난 3분기 기준 월 11만장으로 하이닉스는 내년 이 같은 낸드플래시 생산량을 월 13만장으로 확대한다고 밝힌 바 있다.

업계 관계자는 “M11 라인에도 추가적으로 클린룸을 구축하고 장비를 반입하면 최대 생산량이 월 15만장 규모로 확대된다”며 “신규 라인 증설에 따른 생산량 증대 효과는 내후년에나 볼 수 있기 때문에 M11에 대한 확장 투자도 예상할 수 있다”고 말했다.

당초 권오철 사장이 하이닉스 대표로 취임하며 세운 5개년 중장기 계획에 따르면 회사는 중국 우시 공장에 신규 낸드플래시 라인을 지은 다음 M12에는 D램에 대한 투자를 단행할 것으로 정해져 있었다.

이는 중국 정부가 우시 공장에 낸드플래시 라인과 연구개발(R&D) 센터를 지을 경우 3조원의 자금을 융통하는 방안을 하이닉스에 제의한 데 따른 것이다.

그러나 SK텔레콤이 단독 입찰을 통해 회사의 새로운 주인이 될 것으로 확정시되는 만큼 이 같은 투자 계획을 선회, 내년 초부터 곧바로 증설 작업에 나설 수 있도록 준비 작업을 하고 있다는 것이 회사 측 관계자의 설명이다.

이 같은 투자 계획이 승인되면 내년 투자액 대부분은 낸드플래시 생산량 확대를 위한 M12 라인 증설에 활용될 것으로 관측된다.

하이닉스반도체는 “아직 아무것도 정해진 것이 없다”며 이 같은 사안을 공식 부인했다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr