[디지털데일리 한주엽기자] 미국 마이크론이 D램 생산량을 늘리기 위해 일본 히로시마 공장에 1000억엔(약 9500억원)을 투자할 예정이라고 니혼게이자이신문이 11일 보도했다.

마이크론은 이번 투자를 통해 20나노 D램 생산을 시작할 계획이다. 대만 D램 공장도 설비를 확충해 내년 8월까지 전체 D램 공급량을 20% 확대한다는 목표를 세웠다고 이 신문은 전했다. 니혼게이자이는 보도에서 “(20나노대 공정 가운데) 1세대(2x) 25나노와 비교해 (2y인) 20나노는 웨이퍼 한 장에서 얻을 수 있는 칩(Die) 양이 20% 증가해 생산효율이 높아질 전망”이라고 설명했다. 마이크론은 내년 38억달러의 설비투자를 계획 중이며 이 가운데 절반 가량을 D램에 충당할 계획이다.

◆D램 2y 공정전환용 보완투자 성격 강해

전문가들은 마이크론의 이번 투자의 규모(약 9500억원)나 내용(20나노 공정전환)으로 볼 때 신규증설이 아닌, 일상적 보완투자 성격이 강하다고 설명했다. 마이크론은 삼성전자, SK하이닉스와 비교해 미세공정 전환 속도가 가장 늦다. 지난 2분기 기준 마이크론(+엘피다)의 D램 생산 용량은 32만장(월 300mm 웨이퍼 투입 기준)으로 SK하이닉스(26만5000장) 대비 높았음에도 불구, 매출액에서 뒤진 이유가 바로 여기 있다(관련기사).

업계 관계자는 “칩 면적을 비교하면 마이크론의 25나노(2x) D램은 삼성전자의 28나노(2x), SK하이닉스의 29나노(2x)와 비슷한 수준”이라며 “보완투자를 통해 새롭게 양산할 마이크론의 20나노(2y) 칩도 삼성전자와 SK하이닉스의 25나노(2y) 칩과 면적이 비슷한 수준일 것”이라고 말했다.

삼성전자와 SK하이닉스는 이미 2y D램을 양산 중이다. 시장조사업체 IHS아이서플라이에 따르면 지난 2분기 삼성전자의 2y D램 공정 비중은 30%, SK하이닉스는 7% 수준이었다. 마이크론의 주력 공정은 아직 3x 나노로 전체의 과반 이상을 차지하고 있다. 마이크론은 이번 보완투자를 통해 기존 3x 나노 D램 공정을 2y 공정으로 전환할 것으로 보인다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr