반도체

EV그룹, 나노임프린트 리소그래피 역량 센터 설립

디지털데일리 발행일 2015-02-05 17:04:38
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한주엽

[디지털데일리 한주엽기자] 반도체 제조설비 및 공정 솔루션 업체인 EV그룹은 5일 오스트리아 본사 및 북미, 일본 지역에 나노임프린트 리소그래피(NanoImprint Lithography, NIL) 역량 센터를 설립한다고 발표했다.

회사 측은 NIL 분야에서 EV그룹의 제품군을 활용하는 다양한 고객을 지원하기 위해 역량 센터를 설립하게 됐다고 설명했다. 아울러 NIL 전담 공정팀을 운영하는 한편 초기 양산 서비스를 지원할 수 있도록 최첨단 클린룸도 마련한다고 밝혔다. NIL은 나노패턴이 각인된 스탬프를 사용해 마치 도장을 찍듯 기판 상에 나노패턴을 전사하는 공정 방식을 의미한다. NIL은 발광다이오드(LED)와 태양광(PV) 셀 분야의 광 추출 및 광 포획 성능을 향상시킬 수 있으며 레이저 다이오드 분야에도 응용될 수 있다.

마커스 뷤플링거 EV그룹 기술개발 및 IP 이사는 “나노 임프린트 기술은 기존의 리소그래피 설계 및 제조 시간을 대폭 단축 할 수 있고, 포토닉스 구조를 가진 모든 제품 개발이 가능하다”며 “광학 리소그래피용 이빔(e-beam) 장치 및 스텝퍼(Stepper) 시스템과 같은 종래의 기술 대비 생산 비용을 절감할 수도 있다”고 말했다.

EV그룹은 EVG7200 UV-NIL 등 NIL 전용 장비를 출하하고 있다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr

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