[디지털데일리 김도현기자] 국내 극자외선(EUV) 분야 발전을 위해 산학이 협력한다. 국내외 대학과 연구소가 기업들에 기술 및 정보를 제공하는 방식이다.

27일 한양대학교 EUV-IUCC(Industry-University Cooperation Center)는 서울 성동구 한양대학교에서 ‘EUV 노광기술 생태계 조성을 위한 산학협력 포럼’을 개최했다. 이 자리에는 반도체 전문가들이 모여, EUV 발전 방향을 논의했다.

EUV는 반도체 미세공정의 핵심으로 꼽힌다. 빛의 파장이 13.5나노미터(nm)에 불과하다. 기존 불화아르곤(ArF) 공정(193.5nm) 대비 14분의 1이다. 더욱 미세한 회로 구현이 가능하다. 붓이 얇아질수록 섬세한 그림을 그릴 수 있는 것과 같은 원리다.

삼성전자와 TSMC 정도만 생산라인에 도입한 상황이다. EUV 장비는 ASML이 독점 공급하고 있다. 상용화에 성공했지만, 여전히 갈 길이 멀다. 국내 반도체 업계도 준비가 미흡한 상태다.

한양대는 이를 해결하기 위해 EUV-IUCC를 설립했다. 학교 자체 지원으로 운영되는 산학협력연구센터다. 센터장인 안진호 한양대 교수를 비롯한 국내외 EUV 전문가들이 참여한다.

EUV-IUCC는 회원 기업에 다양한 혜택을 제공할 계획이다. 삼성전자, ASML, 에프에스티, 에스앤에스텍, 이솔 등이 등록된 상태다. 구체적으로 EUV 관련 ▲기술 정보망 구축 ▲연구개발 및 사업화 ▲전문 인력 양성 등을 수행한다.

아울러 현재 EUV 관련 기술을 다수 보유하고 있다. EUV-IUCC가 확보한 기술로는 EUV 마스크 및 펠리클 광학 검사 기술, 웨이퍼 열변형 특성 및 수명 예측, 방사광 기반 첨단 분석 EUV 레지스트 특성 평가 등이 있다.

EUV 공정은 비용, 소재 미흡, 기술적 한계 등의 문제점을 안고 있다. ASML이 공급하는 EUV 장비 1대 가격은 1500억원에 달한다. 노광 공정에서 ‘모양 자’ 역할을 하는 포토마스크 역시 EUV용은 5억원으로 가격이 높다. 포토마스크를 보호하는 펠리클을 활용하면 비용 절감이 가능하지만, EUV용 개발은 아직이다.

EUV-IUCC는 이 같은 문제점을 기업과 협력해 해결하겠다는 의지다. 안 교수는 “학교에서 23억원을 투입해 만들었다. 사립대학 입장에서는 큰 투자”라며 “단계적으로 국내외 전문가가 함께하는 내셔널 센터로 거듭날 것”이라고 강조했다.

<김도현 기자>dobest@ddaily.co.kr