반도체

삼성전자, 화성 S3 신규공장 건설 승인

디지털데일리 발행일 2017-12-06 10:36:02
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이수환

[전자부품 전문 미디어 인사이트세미콘]

삼성전자가 경기도 화성시에 짓는 가칭 ‘18라인’ 시스템반도체 공장의 인허가 승인을 받았다. 이곳은 극자외선(Extreme Ultra Violet, EUV) 노광(露光) 장비를 사용해 7나노 칩을 처음으로 생산하게 된다.

6일 업계에 따르면 삼성전자는 이달 1일 경기도 화성시로부터 S3 신규공장 건설과 관련된 인허가 승인을 받은 것으로 전해졌다. 이번 주에 착공되며 내년 초에는 지역주민과 국회의원 등과 함께 기공식도 연다.

17라인 공장의 빈 곳에 건설되는 이번 공장은 교통 혼잡을 이유로 인허가 승인이 차일피일 미뤄졌었다. 화성시가 교통량 증가를 이유로 700억원대의 지하도 마련을 요구한 것. 이에 대해 삼성전자는 추후에 교통량 증가가 있을 경우 분담금을 내기로 하고 신공장 건설 승인부터 내달라고 답했고, 화성시도 이런 측면을 고려한 것으로 알려졌다.

삼성전자는 경쟁사, 특히 대만 TSMC를 따돌리기 위해 7나노를 적극적으로 어필하고 있다. 네덜란드 ASML로부터 EUV 장비를 들여왔고 포토레지스트(PR)와 펠리클 등 기술적인 문제도 대부분 해결한 상태다. 가장 큰 문제는 경제성이었으나 출력이 250와트(W)로 높아지면서 시간당 웨이퍼를 125장 처리할 수 있게 됐다.

삼성전자 관계자는 “2018년 초도 생산을 위한 준비가 이뤄지고 있으며 공정 개발 일정과 고객 수요에 맞춰 순차적 도입한다. EUV 장비로 최대 물량을 공급하는 업체가 될 것”이라고 말했다. 최근에는 신형 노광 장비 ‘NXE 3400B’ 조정 작업에 한창이다. 기존에 쓰던 ‘NXE 3350B’에서 축적된 기술을 바탕으로 PR, 펠리클을 모두 NXE 3400B에 적용시키고 있다.

<이수환 기자>shulee@ddaily.co.kr

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