이재용 부회장, EUV 개발라인 깜짝 방문
특히 극자외선(Extreme Ultra Violet, EUV) 개발라인을 깜짝 방문해 현장 임직원을 격려했다.
EUV는 반도체 회로를 그리는 핵심공정으로 포토 리소그래피(Photo Lithography), 노광(露光) 공정에 사용하는 기술이다. 빛의 파장이 기존 이머전(Immersion, 액침) 불화아르곤(ArF)보다 짧아 보다 정밀하게 회로를 만들어 낼 수 있다.
이미 삼성전자는 7나노(올해 말 시험양산)부터 EUV를 사용하겠다고 밝힌 바 있다. 올해 2월에는 ‘화성 EUV 라인 기공식’도 열었다. 화성 EUV 라인은 오는 2019년 하반기에 완공, 시험생산을 거쳐 2020년부터 본격 가동을 시작한다.
이 부회장은 “4차 산업혁명을 선도하고 미래 반도체 수요에 대비하기 위해선 ‘기술 초격차’가 반드시 유지돼야 한다”면서 끊임없는 혁신과 도전을 당부했다.
또한 그는 “삼성전자가 메모리 반도체 글로벌 1위를 20년 넘게 유지하고 있는 것은 임직원들이 현장에서 최고의 역량을 발휘하고 있기 때문”이라며 “반도체 1등 기업이라는 자부심으로 실패를 두려워하지 말고 도전해달라”라고 덧붙였다.
한편, 이날 간담회에는 김기남 사장(DS부문장), 진교영 사장(메모리사업부장), 정은승 사장(파운드리사업부장), 강인엽 사장 (시스템LSI사업부장), 강호규 부사장(반도체연구소장) 등이 참석했다.
<이수환 기자>shulee@ddaily.co.kr
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