- 반도체 생산라인 정상 가동

[디지털데일리 김도현기자] 삼성전자의 평택 신공장 증설에 차질이 생겼다. 코로나19 확진자가 발생한 탓이다. 반도체 생산라인은 정상 가동 중이다.

14일 삼성전자에 따르면 평택 2공장(P2) 증설 공사장에서 근무하던 현장 사무소 직원이 코로나19 확진 판정을 받았다. 해당 직원은 삼성물산 소속으로, 공사장은 일시 폐쇄됐다. 확진자와 밀접접촉자는 즉시 신고하도록 조치했다.

현장에는 삼성물산, 삼성엔지니어링, 협력업체 직원까지 2만명이 일하는 것으로 알려졌다. 삼성물산은 인력 전원을 철수시켰고, 방역 작업에 나섰다. 여전히 공사 현장 출입은 통제되고, 추가 방역 작업을 진행할 예정이다.

삼성전자 관계자는 “반도체를 생산하는 곳과 공사 현장은 근접하지 않다. 다만 만일을 대비해 출입 이력, 접촉 여부 등을 확인 중”이라며 “생산라인은 차질 없이 운영되고 있다”고 설명했다.

한편 삼성전자는 평택캠퍼스에 P2와 극자외선(EUV) 라인 ‘P-EUV(P3)’를 세우고 있다. P2와 P3는 올해 하반기 가동 예정으로, 첨단 D램이 생산되는 곳이다.

P2에는 2세대(1y) 및 3세대(1z) 10나노급 D램 설비가 들어선다. 초기 생산능력(CAPA)은 월 3만(30K)장 수준이다. 삼성전자는 1y와 1z D램의 비중을 높이고 있다. 회로 간 선폭(집적도)이 각각 10나노대 중후반, 초중반 정도다. 회로의 물리적 거리가 가까워지면 ▲신호처리 속도 향상 ▲동작 전압 및 대기 전압 감소 ▲웨이퍼당 D램 생산량 증가 등의 이점이 생긴다.

P3은 D램 전용 EUV 팹이다. 삼성전자는 지난 3월 EUV 공정을 적용한 1세대(1x) DDR(Double Data Rate)4 D램 모듈을 생산했다고 밝혔다. EUV는 파장 길이가 짧아, 미세한 회로를 그리는 데 적합하다. 얇은 붓을 쓰면 섬세한 그림을 그릴 수 있는 것과 같은 원리다. 웨이퍼당 생산성은 2배 이상 높일 수 있다. 삼성전자는 4세대(1a) DDR5 D램부터 EUV를 본격 도입한다.

<김도현 기자>dobest@ddaily.co.kr