화학·소재

동진쎄미켐·영창케미칼, EUV 소재 국산화 도전

디지털데일리 발행일 2022-02-23 17:49:57
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김도현

- EUV용 하드마스크·세정액 등 개발
- ‘日 독점’ 포토레지스트도 대응

[디지털데일리 김도현 기자] 우리나라 기업이 극자외선(EUV)용 제품 내재화에 나선다. 차세대 노광 기술인 EUV 시대에 돌입하면서 전용 소재 수요가 늘어나는 추세다. 일본 등 해외의존도가 높았던 만큼 삼성전자와 SK하이닉스 공급망 안정화에 기여할 것으로 기대된다.

23일 업계에 따르면 동진쎄미켐은 EUV용 하드마스크 ‘언더레이’를 개발 중이다.

하드마스크는 반도체 노광공정에 쓰이는 포토마스크 보조재료다. 노광은 포토레지스트가 발린 웨이퍼 위에 패턴이 그려진 포토마스크를 얹고 빛을 조사해 회로를 새기는 단계다. 이 과정에서 하드마스크는 패턴 붕괴를 막는 방패 역할을 한다. 공정 미세화로 노광 세기가 강해져 하드마스크 성능이 더욱 중요해졌다.

특히 EUV의 경우 불화아르곤(ArF) 대비 파장이 약 13배 짧은 등 기존 노광과 전혀 다른 성질이 있다. 기존 하드마스크보다 개선된 소재가 필요하다는 의미다. 이에 동진쎄미켐은 언더레이를 통해 EUV 정밀도를 높일 심산이다.

영창케미칼은 EUV용 세정액(린스)을 개발했다. 린스는 노광공정 이후 초순수를 활용한 세척 시 발생되는 패턴 손상을 방지하기 위해 사용되는 물질이다. 남은 포토레지스트 찌꺼기를 제거하는 역할도 한다.

EUV용 린스 역시 불화크립톤(KrF) 및 ArF와 다른 특성이 요구된다. 현재 영창케미칼은 고객사에 시제품을 제공한 것으로 전해진다.

양사는 포토레지스트 국산화도 진행 중이다. EUV 포토레지스트는 일본이 시장점유율 90%를 차지할 정도로 사실상 독점해온 품목이다.

동진쎄미켐은 EUV 포토레지스트 양산 적용을 앞두고 있다. 구체적인 시점은 미정이다. 영창케미칼은 전 단계인 ArF 이머전 포토레지스트의 양산 평가를 연내 진행할 예정이다. 향후 EUV용까지 개발에 나설 방침이다.
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김도현
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