반도체

인테그리스, 가스 정제 시스템 국내서 생산…반도체 수율↑

이수환

[전자부품 전문 미디어 인사이트세미콘]

전자 산업용 특수화학물질 및 소재 처리 솔루션 업체인 인테그리스가 반도체 제조에 사용되는 각종 가스를 정제해주는 가스 정제 시스템(Gas Purification Systems, GPS) ‘게이트키퍼’를 국내에서 생산한다.

반도체 미세공정 한계극복과 수율개선, 원가절감을 위해 다양한 재료가 사용되고 있어서 관련 업계의 요구를 적극적으로 반영하고 한국을 아시아 시장 공략을 위한 허브로 삼기 위함이다.

8일 인테그리스는 삼성동 그랜드인터콘티넨탈호텔에서 기자간담회를 열고 게이트키퍼 GPS를 화성에 위치한 장안 공장에서 생산하겠다고 밝혔다. 이 제품은 그동안 싱가포르에서 제조되어 왔다. 국내 생산을 결정한 이유는 삼성전자, SK하이닉스와 같은 주요 고객사와의 긴밀한 협조와 함께 전초기지로 삼아 공격적으로 아시아태평양 시장을 선점하려는 전략 때문이다.

GPS는 반도체 제조에 필요한 질소(N2), 수소(H2), 아르곤(Ar), 암모니아를 비롯해 청정건조공기(CDA)를 포함한 다양한 가스를 작은 공간에서 정제하는 것이 핵심이다. 각종 장비 앞단에 설치하거나 필요한 경우 서브 팹(Fab)에 대량으로 가스를 정제할 수 있도록 마련하는 것이 가능하다.

인테그리스는 게이트키퍼가 경쟁사와 비교해 가장 작은 크기에서 만족할 수 있는 성능이 가장 큰 특징이라고 강조했다. 무엇보다 가스에 포함된 여러 오염 물질을 1조분의 1분율 단위로 제거해 초고순도 수준을 만족시킨다.

반도체 공정에 각종 재료가 널리 쓰이면서 그 자체로 인한 문제도 만만치 않다. 각 재료의 특성 파악은 물론이고 수율에 얼마나 영향을 끼치는지, 미세공정 발전으로 인한 결점(Defect) 파악의 어려움 등이 대표적이다. 반도체 업체 입장에서는 오염을 최소화하는 것이 우선이다. 이런 점에서 게이트키퍼는 기존 장비와 시너지 효과를 충분히 발휘할 수 있다.

가령 포토 리소그래피(Photo Lithography)라 부르는 노광(露光) 공정에서 널리 쓰이는 이머전(Immersion, 액침) 불화아르곤(ArF)은 액체를 이용해 해상력(解像力, resolution)을 높인 기술이다. 여기서 사용되는 액체는 불순물이 없는 DI(Deionized)워터로 이산화탄소(Co2)를 섞는다. 게이트키퍼는 Co2를 정제해 이머전 ArF의 성능을 한결같이 유지해줄 수 있다.

인테그리스코리아 홍완철 사장은 “이제까지 장안 공장에 4000만달러(약 460억원) 가량을 투자했으며 게이트키퍼 때문이 아니더라도 올해 60여명 이상의 인력이 더 필요해 충분히 고용창출효과가 있다”고 강조했다. 공격적으로 시장 공략에 나서겠다는 의도로 풀이된다.

또한 그는 “최근 반도체 업계는 새로운 재료로 인해 품질관리의 필요성이 대두되고 있다”며 “결점 검사와 개선, 첨단 소재를 통한 결점의 제어가 가능하도록 하는 것이 변수”라고 덧붙였다.

<이수환 기자>shulee@ddaily.co.kr

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